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光州设计双年展展示作品达到2,600件 “创历史新高”
创建日期
2023.08.17
点击数
236

韩联网消息:


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      (光州=韩联网)邢民禹记者=今年迎来第10届的光州设计双年展的参展作品数量将达到历史最大规模。

      据光州设计振兴院16日称,第10届光州设计双年展将于9月7日至11月7日在光州双年展馆一带举行。

      今年将以“与设计相会(Meet Design)”为主题,举行正式展、特别展、相关/纪念展等10项设计展示活动,和国际学术活动、设计体验、教育和市民参与项目、海外买家邀请出口咨询会及设计市场等。

      由来自50多个国家的777名设计师和189家企业参与,展示2,663件作品。

      与2017年1,288件、2019年1,113件、2021年1,039件相比大幅增加,超过了原历史最多作品数的2007年2,007件。

      除LG电子、韩国雷诺等主要企业,斯蒂凡诺·乔凡诺尼(Stefano Giovannoni)、村田智明、金贤善、李二男等国内外著名设计师和作家也榜上有名。

      以技术(technology)、生活方式(life style)、文化(Culture)、商业(Business)等4个主题举行的正式展会,有意大利、日本等16个国家的63名设计师和144家企业参加,展出了126件作品。

      韩国设计团体总联合会主办的“国际海报设计邀请展”有来自26个国家的355名设计师参加。

      在光州设计振兴院举行的特别展“设计Nexus”上,有光州、全南地区设计师、大学生235人参加,将展示产品、视觉、工艺等多种设计作品。

      光州市立美术馆将以“生态美术项目”为主题展出100多件作品。

      此外,在光州、全南地区各处举行的纪念展也将展示多种设计作品。

      光州设计振兴院相关人士表示:“今年迎来第10届的光州设计双年展,各界都希望参加。随着人们对设计双年展的关注及其响应度的提高,活动节目及作品的数量预计将会持续增加。”

minu21@yna.com

<著作权(c)属于韩联网,禁止非法转载、转发。>

原文记事

来源:韩联网(2023.08.16)

~~*此记事原文为韩国语电子版*~~