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GE、京畿道板橋にアジア統合R&Dセンター構築へ
作成日
2011.04.20
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聯合ニュースによると、

米国を訪問している京畿道投資誘致団がグローバル企業GE社と3000万ドル規模の投資協約(MOU)を締結した。

金文洙(キム・ムンス)京畿道知事を団長とする投資誘致団は19日、米コネチカット州のGE本社を訪れ、エネルギーソフトウェアとスマートグリッド、スマート家電などのグリーン産業分野R&Dセンター設立に関するMOUを締結した。

これに伴い、GE社は来年3月に完工される予定の地下2階、地上6階建てで用地規模4万6110平方メートルの板橋R&Dセンタービルに入居し、5年間で3000万ドルを投入してアジア地域統合R&Dセンターを構築する。

道は、GE社のR&Dセンターが製品開発および現地化に重点を置き、追加生産と輸出につながると予想されろことから、今後の輸出増大にも貢献するものと期待している。

また、来年下半期から年間1000万ドルの部品の現地購買を通じ、地域経済活性化にも大いに役立つと見込まれる。

金知事は挨拶で、「韓国の発達したIT技術とインフラ、人的資源にGE社の世界的な技術力を融合した技術および研究開発業務が進められれば、韓国市場だけでなく、世界市場を対象に新しい需要が創出されるものと期待される」と期待感を示した。

一方、投資誘致団は同日、産業用ガス製造業者であるA社の本社を訪れ、1億ドル規模の投資の約束を取り付けた。

A社は龍仁市・器興区の2万9515平方メートルの敷地に半導体、LCD、LED製造に欠かせない超高純度窒素ガス製造工場を2013年まで完工する予定だ。

A社の工場敷地は顧客会社であるサムスン電子から800メートルしか離れておらず、地下配管を通じて窒素ガスを供給することができる。

道は今回の協約により、2015年まで直接雇用16人、間接就業誘発2268人などの地域経済活性化に加え、超高純度窒素ガスの安定的な供給が期待されると説明した。

記事原文

出所:聯合ニュース(2011.04.20)

**本内容は上記のウェブ版に掲載されている記事を訳したものです。

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