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同日の起工式には、ASMLのピーター・ウェニンク最高経営者(CEO)、韓国産業通商資源部のムン・ドンミン貿易投資室長、京畿道のキム・ドンヨン知事、華城市のチョン・ミョングン市長、イ・ウォンウク国会議員、需要企業などの関係者約160人が参加した。
ASMLが2400億ウォンを投じて2024年末完工予定のニューキャンパスには深紫外線(DUV)・極端紫外線(EUV)露光装置の関連部品などの再製造センターと先端技術を伝授するためのトレーニングセンターや体験館などが設立される。
今回の華城ニューキャンパス構築を通じ、ASMLと韓国国内半導体企業との協力がさらに緊密になり、先端装置関連素材・部品供給網が一層強化されるものと評価を受けている。
ASMLは極端紫外線(EUV)露光装備を独占生産するメーカーだ。
露光工程とは、微細で複雑な電子回路を半導体ウェハーに描画する技術として、EUV露光装備を活用すれば短い波長で細かく回路を転写することができる。
グローバル半導体業界は、EUV露光装備を確保するため、激しい競争を繰り広げている。
ウォンウクCEOは、今回の訪韓期間中にサムスン電子のイ・ジェヨン会長と協力案について話し合う予定だ。
kihun@yna.co.kr
原文記事
出所:聯合ニュース(2022.11.16)
**本内容は上記のウェブ版に掲載されている記事を訳したものです。